光學LCD對水質的要求非常高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。光學LCD用超純水處理設備完全滿足半導體行業的要求。

　　萊特萊德內蒙古水處理設備公司致力于成為時代的水處理企業，適時進行戰略創新和管理模式創新以適應時代的變遷和發展，先后實施名牌戰略、多元化戰略、網絡化戰略。專業生產水處理設備、超純水設備、純化水設備、純凈水設備等系列水處理設備產品質量。于此同時公司嚴格執行ISO9001質量認證體系規定，并通過ISO14001環境體系認證，確保所提供產品的品質。

光學LCD用超純水處理設備

　　光學LCD用超純水處理設備工藝流程

　　1、一級反滲透+混床(出水2---15mΩ.cm)

　　原水箱—原水泵—全自動多介質過濾器—全自動活性炭過濾器—全自動軟水器→保安過濾器→高壓泵—反滲透主機→純水箱—純水泵→陰陽離子交換混床→微孔過濾器—儲水罐→純水輸送泵→用水點

　　2、一級反滲透+EDI系統(出水5---15mΩ.cm)

　　原水箱→原水泵→全自動多介質過濾器→全自動活性炭過濾器→全自動軟水器→保安過濾器→高壓泵→反滲透主機→純水箱—EDI系統→儲水罐→純水輸送泵→用水點

　　3、二級反滲透+EDI系統(出水18mΩ.cm)

　　原水箱—原水泵→全自動多介質過濾器→全自動活性炭過濾器→全自動軟水器→保安過濾器→一級高壓泵→級反滲透主機→PH調節→二級級高壓泵→二級反滲透→純水箱→脫氣裝置→微孔過濾器→EDI系統→拋光混床系統—儲水罐→純水輸送泵→用水點

　　光學LCD用超純水處理設備概述

　　光學LCD的制造需要大量高品質的純水、超純水，可以說在電子級超純水制備系統中匯集了當前水處理技術先進的工藝和設備，如超濾，納濾，微濾，反滲透，膜脫氣電去離子(EDI)等，其中EDI裝置在整個超純水制備系統工程中一關鍵設備，它巧妙的將電滲析和離子交換技術相結合，利用兩端電極高壓使水，中帶電離子移動，并配合離子交換樹脂及選擇性樹脂膜以加速離子移動去除，從而達到水純化的目的。EDI設施的除鹽率可以高達99%以上，如果在EDI之前使用反滲透設備對水進行初步除鹽，再經EDI除鹽就可以生產出電阻率高達成15M.cm以上的超純水。

光學LCD用超純水處理設備

　　光學LCD用超純水處理設備凈水基本過程

　　1、連續運行，產品水水質穩定。

　　2、容易實現全自動控制。

　　3、無須用酸堿再生。

　　4、不會因再生而停機。

　　5、節省了再生用水及再生污水處理設施。

　　6、產水率高(可達95%)。

　　7、無須酸堿儲備和酸堿稀釋運送設施。

　　8、占地面積小。

　　9、光學LCD用超純水處理設備使用安全可靠，避免工人接觸酸堿。

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